主要功能及特色
   该设备具有多靶磁控溅射功能，标配2只4inch磁控靶，预留1对蒸发电极，能够溅射蒸发两用；溅射靶采用波纹管结构，方便调整角度；溅射靶中频电源溅射取代传统直流溅射，改善靶的电弧放电及“中毒”现象。 该设备主要用来开发纳米级单层及多层的导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性材料等，基片台加负偏压可实现基片反溅清洗功能。
样本检测注意事项
     1、 开仪器总电源前一定要先打开循环水泵。
     2、 腔室真空度在10的负一次帕以下才能打开分子泵。
     3、 分子泵运行结束后才能停止运行机械泵。
     4、 仪器运行期间注意排风设施。
     5、 仪器使用为高压电源，高压危险！
设备放置地点
     工业生态楼D108
设备负责人
      姓名：高培峰
      联系方式：010-81381282
                      sscgpf@bit.edu.cn
收费标准
      校内：80元/小时
      校外：150元/小时

审核：高培峰